鍍液是由什麽組成的

 鍍液組成
目前研究和使用的三價鉻電鍍液主要成分如下：
(1)主鹽：當前三價鉻鍍鉻體係主要有氯化物體係，硫酸鹽體係和硫酸鹽-氯化物混合體係。
氯化物鍍液導電好，電壓低，鍍液分（fèn）散能力、覆蓋能力和電流效率（lǜ）較高，但陽極會析出有（yǒu）毒的CL2，且對設備（bèi）腐蝕較重;硫酸鉻電鍍時陽極析出無毒的（de）氧氣，無汙染，但鍍液導電性不如氯化物（wù），鍍（dù）液分散能力、覆（fù）蓋能力和電流效率較低（dī）。
(2)絡合劑：通常為羥基羧酸及其鹽，如甲酸和乙酸鹽（yán）、氨基乙酸、草酸及其鹽，檸檬酸（suān）及其鹽，硫氰算眼和（hé）酒石酸鹽等。
(3)導電鹽（yán）：減少電（diàn）能的消耗。多為鈉、鉀、銨的（de）氯化物和硫酸鹽。
(4)緩衝劑：維持鍍液PH值穩定。多為硼酸、醋酸鹽、鋁鹽以及檸檬酸（suān）鹽等。
(5)穩定劑：複合型還（hái）原劑，抑（yì）製和降低六價鉻的產生（shēng）。多為甲醇、亞硫酸（suān）鈉（nà）、鹵化物等。

工藝條件
(1)溫（wēn）度：最好在室溫（wēn）下進行，工作（zuò）溫度一般控製在15～55℃。溫度升高會降低濃差極化，並使CR3+的析出點位正移，同（tóng）時析（xī）氫嚴重，不利於鉻的沉積（jī）。
(2)PH值為1～4。PH值低時（shí）析氫嚴重，陰極電流效率（lǜ）降低（dī），PH值高時（shí）易發生羥橋化反應，鍍層發暗。
(3)電流密度為3～100A/DM2。陰極電（diàn）流密度範圍較寬，但較（jiào）低時會影響鉻沉積速度，陰極（jí）電流密度過高會影（yǐng）響到鍍層（céng）性能。
(4)電流效率為10%～25%。可以進行輕微攪拌。
另（lìng）外，三價鉻鍍鉻（gè）有單槽（cáo）方式和雙槽方式，單槽方式中的陽極材料（liào）是石墨棒，與其他普通電鍍一樣;雙槽方式使用了陽極內槽，可以使用鉛錫合金陽極罩，另外作為陽（yáng）極基礎液使用了稀硫酸。

三價（jià）鉻鍍鉻優點
三價鉻電鍍具（jù）有下列優點：
(1)毒性低，汙染（rǎn）小。鍍液清（qīng）洗水中不含六價鉻，廢水稍加（jiā）處理即可排放，且電鍍過（guò）程不產生有（yǒu）毒的鉻酸霧;
(2)鍍液濃度低,隻有六價鉻鍍鉻（gè）的1/10，分散能力和覆蓋能力好，成品率提高;
(3)電鍍過程不受電流中斷的影（yǐng）響，無需退鍍;
(4)陰極電流效率可達21～25%，高於六價鉻電鍍，提高了生產率。

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