請問真空電鍍加工的方法是什麽？

 真空電鍍加工是真空應用中（zhōng）的一個大分支，在光學（xué）、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表麵處理技術等眾多（duō）方麵有著十分（fèn）廣泛的應用。為了讓大家更詳（xiáng）細（xì）的了（le）解真空鍍膜的應用，今天小編詳細（xì）為大（dà）家介紹真空電鍍加工的主要幾種方法，希望（wàng）對大家有用!

真空電鍍（dù）應用，簡單地理解（jiě）就是在真空環境（jìng）下，利用蒸鍍、濺射以及隨後（hòu）凝（níng）結的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導體以及塑料件等物體（tǐ）上鍍上金屬薄膜或（huò）者是覆蓋層。相對於（yú）傳統（tǒng）電（diàn）鍍方式，真（zhēn）空電鍍應用屬於一種幹式電鍍，它的主要方法包括以下幾種：

真空蒸鍍。其（qí）原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，並在基片上沉積析出固態薄膜的技術。

濺射鍍膜。濺射鍍膜是（shì）真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使（shǐ）其射（shè）出（chū）原子，濺射出的原（yuán）子通過惰性氣氛沉積到基（jī）片（piàn）上（shàng）形成（chéng）膜層。

離子鍍膜。即幹式螺杆真空（kōng）泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上麵兩種真（zhēn）空鍍膜（mó）技術基礎上發展而來（lái）的，因此（cǐ）兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放（fàng）電使工作氣體（tǐ）或被蒸發物質(膜材)部分離化，並（bìng）在離子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積（jī）在（zài）基片表（biǎo）麵。在膜的形成過程中，基片始終受（shòu）到高能粒子（zǐ）的轟擊，十分清潔。

真（zhēn）空卷繞鍍膜。真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體（tǐ）上連續鍍（dù）膜的技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性（xìng）。

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