鋅鎳合金鍍層陰暗原因分析鍍層陰暗（àn）

 鍍層（céng）陰暗多數出（chū）現在低電流（liú）密度區（qū），偶爾也有（yǒu）出（chū）現在中電流密度區（qū）或高電流密度區。
低電流密度區鍍層陰（yīn）暗可能是鍍液溫度（dù）太高（gāo），電流密（mì）度太小，主鹽（yán）濃度太低；
次級光亮劑過多或鍍液（yè）中有銅、鋅雜質引起（qǐ）的；中電（diàn）流密（mì）度（dù）區鍍層陰暗可能是由次級光亮劑太少（shǎo），有機雜質過多或有一定量的鐵雜質造成的；
高電流密度區鍍層陰暗可能是鍍液pH太高，初級（jí）光亮劑太少或鍍液中有少量的（de）鉻酸鹽（yán）、磷酸鹽及鉛雜質引起（qǐ）的。
此外，鍍前處理不良，鍍件表麵有堿（jiǎn）膜（mó）或有機物吸附膜，或者（zhě）底鍍層不好也（yě）會導致鎳（niè）層出現陰暗的現象。
分（fèn）析這（zhè）類故障，可（kě）以取（qǔ）鍍鎳液（yè）先（xiān）做赫爾槽試驗，假使多次試驗，赫爾槽的陰極（jí）樣（yàng）板上鍍層狀況良好，沒有出現陰暗（àn）的現象，
那麽電鍍時出現的故障，可能是（shì）鍍前處理不良或底鍍層不好造成的（de），應該認真檢查電鍍前的情況。
若赫爾（ěr）槽試驗所得的（de）陰極樣板上出現低電流（liú）密度區鍍層陰暗，則可以根據前（qián）麵提（tí）到的可能原因進行（háng）分析。
中、高電流密（mì）度（dù）區鍍層陰暗，也可用類似的方法（fǎ）進行（háng）試驗（yàn），這裏不再贅述。

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